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산업 코스맥스, MQ-T 실리콘 레진 합성법 특허 취득
메디컬투데이 박정은 기자
입력일 : 2020-01-28 14:57:07
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[메디컬투데이 박정은 기자]

코스맥스는 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용한 MQ-T 실리콘 레진의 합성법 특허를 취득했다고 28일 공시했다.


코스맥스측은 "본 발명은 실리콘 MQ 레진과 탄화수소화합물이 결합된 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용하여 전신반응을 통해 얻어지는 MQ-T실리콘 레진에 관한 것"이라며 "본 발명에 의한 레진은 자체적으로는 고온에서의 안정성, 자외선에 의한 산화 안정성, 통기성 및 접착성을 가지며, 화장품에 적용 시 묻어나지 않는 특성, 화장품에 사용되는 오일과의 상용성, 밀착성, 펴짐성, 유연성 및 지속성이 우수한 특성을 가진다"고 설명했다.  
메디컬투데이 박정은 기자(pj9595@mdtoday.co.kr)
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